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VEX Shadow    

光线阴影材质会基于四种不同技术来产生阴影。

Z-Depth阴影使用Z-深度贴图(从一个光源处渲染的)。deep深度阴影会给光源创建一个deep阴影贴图。过滤的阴影会计算物体曲面的AO来计算不透明度。因此过滤的阴影可以有半透明阴影。fast快速阴影指定闭塞物体的不透明度。

阴影偏移可以用来避免曲面的自阴影(当使用深度贴图阴影时)。阴影强度参数会缩放阴影的强度。降低该值为0,会导致没有阴影。为1,阴影会闭塞所有光源的光线。

Z深度柔化参数会使Z深度阴影更柔和。

Z深度质量参数会增强半影角处的噪波。

阴影贴图过滤参数控制deep阴影贴图的过滤。

“Mipmap插值”控制阴影采样是否会插值计算用于deep阴影贴图的Mipmap级别。 设置该值为1,可以减少缝隙(渲染器从一个mipmap级别切换到另一个级别处)。

深度插值参数控制用于deep阴影贴图的深度贴图采样的插值计算方式。Discrete 插值方式应当用于曲面采样,而线性插值方式应当用于体积采样。

Note

所有的Z深度参数都可以用于deep阴影贴图。

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